343nm窄带滤光片，带宽10nm(成品)
产品号：343BP10OD3T80K01
产品价格：500元/片（不含运费，运费到付）查看价格优惠！
库存尺寸：Φ70*0.55mm(无套圈，可改小尺寸，无法改大) 更多尺寸...
尺寸说明：如Φ12.7*6，12.7表示直径，6表示厚度(厚度<6无套圈，厚度=6有套圈)
库存状况：11 片 抢先试用→ 
(成品)（缺货后, 定制时间 >1个月, 预付费用约= 8000元）
点击下图 ↓ 查看 详细透过率指标%
材料：浮法玻璃或石英玻璃
入射角：0°
中心波长：343 nm
半高宽:10 nm
峰值透过率: T>80% at 343 nm
截止深度: OD3-K OD是什么?
通光口径(mm): >11x11(11.4x11.4),>Φ8.7(Φ12.7)，>Φ21(Φ25.4)
应用领域：343nm滤光片应用在机器视觉，生化分析，光学仪器等领域
其他指标: 可定制，库位号: B04-3-4/5
对基底材料、截止深度等有其他要求，您可以：预约定制...
343nm窄带滤光片，带宽10nm
库存状况：11 片 抢先试用→ (成品)（缺货后, 定制时间 >1个月, 预付费用约= 8000元）
安装注意事项：(很多客户反映效果不理想的原因其实是安装问题)
1、滤光片内置安装在CCD前方是最佳方案。
2、兆九光电的滤光片特别适合内置安装在CCD前方（因为厚度薄,不易产生畸变，效果好）。
3、滤光片尽量不要在安装摄像头前方，这样系统成像效果会不好（请注意调整光学方案）。
4、试用请尽量拿库存尺寸，这样发货快，一般在申请批准后4天内到货。
5、试用的时候可以在摄像头或镜头前方试一下效果，但要注意入射角度不要太大，否则成像会有问题。
6、如果系统效果还是不好，请把详细光路系统告诉我们（400-668-5778 ），我们来帮您分析原因，有个客户开始一直不告诉我们系统的详细情况，结果走了很多冤枉路，后来我们帮他一分析，适当修改方案，结果很快就达到想要的效果了，除了滤光片产品外，我们在光学系统设计方面有很强的技术实力（当然，我们会对客户的方案保密，尽可放心！和客户一起成长是我们不变的宗旨）。
客户反馈及相关知识
客户反馈：
深圳x客户：“我是深圳的客户。向你们报告一个好消息：我们产品开发已经初步成功了！谢谢你们！我是11月出差回来才得知公司安排紧急开发这个产品的。说实在的，当时真的慌了，开发时间太紧张了。尤其是各种光路系统产品，质量是个大问题。怎么办？我还是很幸运的，在网上找到了你们。给汤博士打电话的时候，已经是晚上9点多了。我和汤博士电话里说了一下情况，和他进行了详细的沟通。我问，能不能在半个月帮我搞定各种光路系统产品，我要给自己留点时间进行开发及测试的。汤博士说没问题，这属特殊情况，现在就安排生产。半个月还没到，汤博士就把产品快递过来了，我们马上进行检测，产品质量我十分满意。我真的没想到，你们的速度如此快，如此敬业！加班加点为了我这个新客户服务，而且质量一次过关，可见你们这方面的生产经验确实丰富，我敢肯定在别的地方肯定没有这么快，帮我争取到了宝贵的开发时间，所以，我要真诚地向你们说声“谢谢！”并对你们高度的敬业精神和服务热情表示钦佩。”
产品简介及滤光小知识：
4、目镜：10X、16X各1对343nm窄带滤光片。缓变误差是由于仪表内部元器件老化过程引起的，它可以用更换元器件、零部件或通过不断校正加以克服和消除激光波长滤光片。本文主要介绍激光共聚焦及ccd生物芯片扫描仪的弱信号检测方法。萤光显微镜原理：。但是，半自动生化分析仪采用单样品连续监测，相当耗时。玻璃片的折射率原本与空气差不多，所有色光都可以通过，所以是透明的，但是染了染料后，分子结构变化，折射率也发生变化，对某些色光的通过就有变化了。电子枪是由钨丝热阴极、栅极和阴极构成的部件。仪表稳定性是化工企业仪表工十分关心的一个性能指标。这项工作的落实将有助于提高诊治水平，降低母婴发病率，从而提高整个国民的健康素质。若是内定位式的转换器，则应旋下转动盘中央的大头螺钉，取下转动盘，才能更换定位弹簧片，光轴校正的方法与前面相同。然后叠加一组高低折射率交替的λ/4膜，以消除这个实数等效导纳的反射。通常由多层薄膜构成。现自动进样检测过程.而另一些酶标仪则是采用手工移动微孔板进行检测,因此省去了X,Y。(由于实用的薄膜材料有限，对不同基片材料，不一定能找到合适的等效折射率)压缩方法之二改变基本周期内的膜层厚度，使其等效折射率变到更接近的预期值(对低折射率材料基底，这种方法比较有效)。可以探测电子探针显微分析方法检测极限以下的微量元素，研究其局部分布和偏析。比如高碳升温曲线，相对于常规的不可控功率，明显的减少了粉尘，同时控制了碳的释放速度，从而显著地提高了分析精度；超低含量的升温曲线，可以消除被测样品表面碳的空白影响，同时通过适当的功率控制，增加被测样品的称样量，从而减少助熔剂空白的影响；通过对被测样品燃烧温度的控制，减少熔融样品对坩埚的腐蚀，从而消除了由于坩埚内部杂质释放所引入的空白。试验室。检测记录系统绘出的各峰是测定流出气体电阻变化的结果，因而测定样品量可到微克和毫微克水平。仪表yíbiǎo。
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10nm:200-300|300-400|400-500|500-600|600-700|700-800|800-900|900-1000|1000-1100
20nm:200-300|300-400|400-500|500-600|600-700|700-800|800-900|900-1000|1000-1100
30nm:200-300|300-400|400-500|500-600|600-700|700-800|800-900|900-1000|1000-1100
40nm:200-300|300-400|400-500|500-600|600-700|700-800|800-900|900-1000|1000-1100
50nm:50nm以上带通
