680nm窄带滤光片，带宽40nm(成品)
产品号：680BP40OD4T80L01
产品价格：500元/片（不含运费，运费到付）查看价格优惠！
库存尺寸：Φ21.8*2mm(无套圈，可改小尺寸，无法改大) 更多尺寸...
尺寸说明：如Φ12.7*6，12.7表示直径，6表示厚度(厚度<6无套圈，厚度=6有套圈)
库存状况：有库存 抢先试用→ 
(成品)（缺货后, 定制时间 >1个月, 预付费用约= 8000元）
点击下图 ↓ 查看 详细透过率指标%
材料：浮法玻璃或石英玻璃
入射角：0°
中心波长：680 nm
半高宽:40 nm
峰值透过率: T>80% at 680 nm
截止深度: OD4-L OD是什么?
通光口径(mm): >11x11(11.4x11.4),>Φ8.7(Φ12.7)，>Φ21(Φ25.4)
应用领域：680nm滤光片应用在机器视觉，生化分析，光学仪器等领域
其他指标: 可定制，库位号: B02-3-1
对基底材料、截止深度等有其他要求，您可以：预约定制...
680nm窄带滤光片，带宽40nm
库存状况：有库存 抢先试用→ (成品)（缺货后, 定制时间 >1个月, 预付费用约= 8000元）
安装注意事项：(很多客户反映效果不理想的原因其实是安装问题)
1、滤光片内置安装在CCD前方是最佳方案。
2、兆九光电的滤光片特别适合内置安装在CCD前方（因为厚度薄,不易产生畸变，效果好）。
3、滤光片尽量不要在安装摄像头前方，这样系统成像效果会不好（请注意调整光学方案）。
4、试用请尽量拿库存尺寸，这样发货快，一般在申请批准后4天内到货。
5、试用的时候可以在摄像头或镜头前方试一下效果，但要注意入射角度不要太大，否则成像会有问题。
6、如果系统效果还是不好，请把详细光路系统告诉我们（400-668-5778 ），我们来帮您分析原因，有个客户开始一直不告诉我们系统的详细情况，结果走了很多冤枉路，后来我们帮他一分析，适当修改方案，结果很快就达到想要的效果了，除了滤光片产品外，我们在光学系统设计方面有很强的技术实力（当然，我们会对客户的方案保密，尽可放心！和客户一起成长是我们不变的宗旨）。
客户反馈及相关知识
客户反馈：
深圳x客户：“我是深圳的客户。向你们报告一个好消息：我们产品开发已经初步成功了！谢谢你们！我是11月出差回来才得知公司安排紧急开发这个产品的。说实在的，当时真的慌了，开发时间太紧张了。尤其是各种光路系统产品，质量是个大问题。怎么办？我还是很幸运的，在网上找到了你们。给汤博士打电话的时候，已经是晚上9点多了。我和汤博士电话里说了一下情况，和他进行了详细的沟通。我问，能不能在半个月帮我搞定各种光路系统产品，我要给自己留点时间进行开发及测试的。汤博士说没问题，这属特殊情况，现在就安排生产。半个月还没到，汤博士就把产品快递过来了，我们马上进行检测，产品质量我十分满意。我真的没想到，你们的速度如此快，如此敬业！加班加点为了我这个新客户服务，而且质量一次过关，可见你们这方面的生产经验确实丰富，我敢肯定在别的地方肯定没有这么快，帮我争取到了宝贵的开发时间，所以，我要真诚地向你们说声“谢谢！”并对你们高度的敬业精神和服务热情表示钦佩。”
产品简介及滤光小知识：
遥感在军事科学上的应用是显然的，因为可以远距离地观察目标，而且可以获得相对宏观的分析数据680nm窄带滤光片。钨灯发出的连续幅射经滤色片选择聚光镜聚光后投向单色器进狭缝,此狭缝正好处于聚光镜及单色器内准直镜的焦平面上，因此进入单色器的复合光通过平面反射镜反射及准直镜准直变成平行光射向色散元件光栅滤光片生产厂家。容易诱导出高的透过率，象Cr比较中性，即n和k相差不大，挺难诱导出高的透过率。7.3开启电源，指示灯亮，选择开关置于“T”，波长调置测试用波长，仪器预热20分钟。观察效果会受到很大影响。图象适配镜。探针均设有液面感应器，防止探针损伤和减少携带污染。在铂线圈上烧结珠形金属氧化物作为敏感元件，再在内电阻、发热量均相等的同样铂线圈上绕结对气体无反应的材料作为补偿用元件(图1)。线性化定标。尤其要提到的是，在中国的计划生育和妇幼保健系统配备酶标仪已经迫在眉睫。6.4光电管暗盒部件：整个光电管暗盒部件通过四个螺钉固定在仪器底座上。宜使用100W以上的稳压器，以加强仪器的抗干扰性能。移动范围：15*15mm。重点关注比色杯空白读数点(CB)、加样品点（S）、各试剂加液点(R1、R2、……)、试剂空白读数点(RB)、各测定读数点(P)、各点时间间隔及周期总时间等。检测器 硅SIPIN探测器。直流电源。(3)系统及配套软件。c、操作环境应保持清洁、干燥。比如高碳升温曲线，相对于常规的不可控功率，明显的减少了粉尘，同时控制了碳的释放速度，从而显著地提高了分析精度；超低含量的升温曲线，可以消除被测样品表面碳的空白影响，同时通过适当的功率控制，增加被测样品的称样量，从而减少助熔剂空白的影响；通过对被测样品燃烧温度的控制，减少熔融样品对坩埚的腐蚀，从而消除了由于坩埚内部杂质释放所引入的空白。
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10nm:200-300|300-400|400-500|500-600|600-700|700-800|800-900|900-1000|1000-1100
20nm:200-300|300-400|400-500|500-600|600-700|700-800|800-900|900-1000|1000-1100
30nm:200-300|300-400|400-500|500-600|600-700|700-800|800-900|900-1000|1000-1100
40nm:200-300|300-400|400-500|500-600|600-700|700-800|800-900|900-1000|1000-1100
50nm:50nm以上带通
