685nm窄带滤光片，带宽30nm(成品)
产品号：685BP30OD5T90A601
产品价格：260元/片（不含运费，运费到付）查看价格优惠！
库存尺寸：10.02*10.02*1.1mm(无套圈，可改小尺寸，无法改大) 更多尺寸...
尺寸说明：如Φ12.7*6，12.7表示直径，6表示厚度(厚度<6无套圈，厚度=6有套圈)
库存状况：有库存 抢先试用→ 
(成品)（缺货后, 定制时间 >1个月, 预付费用约= 8000元）
点击下图 ↓ 查看 详细透过率指标%
材料：浮法玻璃或石英玻璃
入射角：0°
中心波长：685 nm
半高宽:30 nm
峰值透过率: T>90% at 685 nm
截止深度: OD5-580~835nm OD是什么?
通光口径(mm): >11x11(11.4x11.4),>Φ8.7(Φ12.7)，>Φ21(Φ25.4)
应用领域：685nm窄带滤光片应用于医疗诊断或生分化析
其他指标: 可定制，库位号: B19-12-52
对基底材料、截止深度等有其他要求，您可以：预约定制...
685nm窄带滤光片，带宽30nm
库存状况：有库存 抢先试用→ (成品)（缺货后, 定制时间 >1个月, 预付费用约= 8000元）
安装注意事项：(很多客户反映效果不理想的原因其实是安装问题)
1、滤光片内置安装在CCD前方是最佳方案。
2、兆九光电的滤光片特别适合内置安装在CCD前方（因为厚度薄,不易产生畸变，效果好）。
3、滤光片尽量不要在安装摄像头前方，这样系统成像效果会不好（请注意调整光学方案）。
4、试用请尽量拿库存尺寸，这样发货快，一般在申请批准后4天内到货。
5、试用的时候可以在摄像头或镜头前方试一下效果，但要注意入射角度不要太大，否则成像会有问题。
6、如果系统效果还是不好，请把详细光路系统告诉我们（400-668-5778 ），我们来帮您分析原因，有个客户开始一直不告诉我们系统的详细情况，结果走了很多冤枉路，后来我们帮他一分析，适当修改方案，结果很快就达到想要的效果了，除了滤光片产品外，我们在光学系统设计方面有很强的技术实力（当然，我们会对客户的方案保密，尽可放心！和客户一起成长是我们不变的宗旨）。
客户反馈及相关知识
客户反馈：
北京x客户：“尊敬的兆九光电公司，你们好！这次去信，是想表达我们公司对你们的感谢。同时，向你们报告一个好消息，我们的新产品已经开发成功，现在马上就要投入市场。我们知道，所有这些，与你们的帮助是分不开的。在这里，我们公司谨向贵公司再次表示感谢。在开发的过程中，我们能够感到你们最真最诚的心。你们到北京来的时候，一定要来我们公司做客。最后，祝你们生意兴隆，谢谢汤博士！”
产品简介及滤光小知识：
进行质谱分析的仪器，即根据带电粒子在电磁场中能够偏转的原理，按物质原子、分子或分子碎片的质量差异进行分离和检测物质组成的一类仪器685nm窄带滤光片。因此这种信号的判释问题也要比其他各种遥感器困难得多滤光片原理。通过胎盘可引起子宫内感染而导致流产、早产、死胎或胎儿生长迟缓和畸形，通过产道和母乳可引起新生儿感染。振荡频率18MHZ。这个光通量差值是以一定周期振动的振幅投射到红外线接收气室的。在萤光显微镜上，必须在标本的照明光中，选择出特定波长的激发光，以产生萤光，然后必须在激发光和萤光混合的光线中，单把萤光分离出来以供观察。巨细胞病毒的检测 CMV。反之，也可用蓝色滤光片改善对红色字迹的观察。面向市场，全面扩大服务领域，推进仪表系统的数字化、智能化、网络化，完成自动化仪表从模拟技术向数字技术的转变，“十五”末数字仪表的品种数达到60%以上。2.4电风扇不宜直接吹向仪器，以免影响仪器的正常使用。固定螺丝的松紧程度以转换器在转动时轻松自如,垂直方向没有松动的间隙为准。但和侧视雷达一样也有全天候的特性。F-P|耦合层|F-P|耦合层|F-P几个F-P就是几半波滤光片如H2LH L H2LH 就是双半波滤光片HLH2LHLH L H2LH L H2LH L HLH2LHHL就是四半波滤光片，也四腔滤光片。量仪。红外碳硫分析仪是通过检测CO2及SO2气体对红外辐射吸收量来分析物质中的碳硫元素含量；线性化定标是仪器数据中关键技术，由于朗伯比尔定律是符合指数规律，又因红外滤光片具有一定带宽，气体吸收系数不是常数，因而要获得积分面积线性化定标是十分困难。红外碳硫分析仪MC017-HCS-140高频红外碳硫分析仪。金属－介质膜滤光片的峰值透射率不如全介质膜高﹐但后者的次峰和旁带问题较严重。安全栅。比如高碳升温曲线，相对于常规的不可控功率，明显的减少了粉尘，同时控制了碳的释放速度，从而显著地提高了分析精度；超低含量的升温曲线，可以消除被测样品表面碳的空白影响，同时通过适当的功率控制，增加被测样品的称样量，从而减少助熔剂空白的影响；通过对被测样品燃烧温度的控制，减少熔融样品对坩埚的腐蚀，从而消除了由于坩埚内部杂质释放所引入的空白。
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10nm:200-300|300-400|400-500|500-600|600-700|700-800|800-900|900-1000|1000-1100
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40nm:200-300|300-400|400-500|500-600|600-700|700-800|800-900|900-1000|1000-1100
50nm:50nm以上带通
